氮化铪 HfN

产品介绍

氮化铪,hafnium nitride,HfN,立方晶结构。熔点3310℃,显微硬度16GPa。相当稳定,但易为王水、浓硫酸、氟氢酸所腐蚀。由铪和氮在900℃直接反应生成,或由铪卤化物和氨或氮和氢混合气体反应制取。为重要难熔化合物铪合金的重要组分。

产品应用

1.刀具涂层：氮化铪作为涂层材料可显著提升刀具的耐磨性和硬度。例如，B元素掺杂后硬度可达35.27 GPa，断裂韧性达5.98 MPa·m¹⁄₂，适用于高速切削工具。 ‌
2.半导体与光电领域：其红外反射率可达95%，适用于空天航海设备的光学窗口保护涂层。此外，纳米氮化铪因兼具力学、热学及耐腐蚀特性，被视为航天光学器件的关键保护材料。 ‌
3.高温结构材料：熔点3310°C、密度13.8 g/cm³的特性使其成为高温环境下的理想材料。例如，与ZrB₂复合时，15%质量分数的氮化铪可增强复合材料的穿晶与沿晶断裂韧性。 ‌
4.电子器件：具备优异导电性和导热性，可用于导电涂层及耐高温电子元件。 ‌
5.化学与工业应用：可承受王水、浓硫酸等强酸腐蚀，常用于化工设备保护膜。 ‌

储存条件

本品应密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜长久暴露于空气中,防受潮发生团聚,影响分散性能和使用效果,另应避免重压,勿与氧化剂接触,按照普通货物运输。