硅化钛 TiSi2

产品性能

二硅化钛,黑色粉末,密度4.02克/立方厘米,熔点2130度

应用方向

硅化钛（TiSi2）是一种具有高导电性、热稳定性和化学稳定性的材料，主要应用于以下领域：

1.半导体制造
硅化钛被广泛应用于金属氧化物半导体（MOS）、金属氧化物半导体场效应晶体管（MOSFET）和动态随机存储器（DRAM）的门极、源/漏极、互联及欧姆接触的制造。其低电阻特性可提升集成电路的信号传输效率，同时与硅基材料兼容性好，适用于微电子工艺。 ‌

2.高温材料应用
硅化钛在航天航空、船舶潜艇等高温环境中，用于制造耐热部件和高温发热体，因其高熔点（2130℃）和抗氧化性优势显著。 ‌

3.工业涂层
通过等离子喷涂技术制备的碳化钛-硅化钛复合涂层，可提升钛合金表面的硬度、耐磨性和高温稳定性，应用于机械部件保护。 ‌

4.其他领域
硅化钛还可作为炼钢脱氧剂、除气剂及合金添加剂。

储存条件

本品应密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜长久暴露于空气中,防受潮发生团聚,影响分散性能和使用效果,另应避免重压,勿与氧化剂接触,按照普通货物运输。