硅化铪 HfSi2

产品介绍

硅化铪（HfSi2）是一种难熔金属硅化物，具有高熔点（1680℃）、高硬度及良好的导电导热性，广泛应用于多个领域：

1.半导体与光伏材料
硅化铪可制成高介电常数材料，用于制造半导体器件（如DRAM存储芯片），其κ值显著高于传统二氧化硅，适用于太阳能电池透明电极的改性。
2.高温耐腐蚀材料
常用于航空航天、核工业等高温环境，例如原子核反应堆控制棒、核燃料元件包壳材料及火箭喷嘴保护层。 ‌

3.耐磨涂层与复合材料
作为碳基复合材料的增强相，可提升C/C复合材料的抗烧蚀性能；同时用于制造电热元件、热电元件及半导体薄膜生产坩埘。 ‌

4.生物医学应用
氮氧化铪薄膜用于人工关节表面改性，铪改性闪烁晶体促进低剂量CT成像发展。 ‌

5.其他领域
硅化铪粉体可作火箭推进器原料，X射线管阴极制造材料，并用于工具钢及电阻材料的添加剂。

包装储存

本品为充惰气塑料袋包装,密封保存于干燥、阴凉的环境中,不宜暴露空气中,防受潮发生氧化团聚,影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供,分装。